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氣相沉積爐

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氧化亞硅真空氣相爐
氧化亞硅真空氣相爐
主要特點(diǎn) :
利用真空蒸鍍方式生產(chǎn)硅的氧化物; 適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產(chǎn);溫差控制精度高,高溫高真空;具備高真空升華,反應(yīng),脫脂,脫水,氣相沉積材料自動(dòng)研磨刮料,爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。
使用行業(yè) :
  • 產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品規(guī)格
  • 使用步驟
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    設(shè)備用途:    

        利用真空蒸鍍方式生產(chǎn)硅的氧化物;

        適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產(chǎn);溫差控制精度高,高溫高真空;具備高真空升華,反應(yīng),脫脂,脫水,氣相沉積材料自動(dòng)研磨刮料,爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。

         

         設(shè)備特點(diǎn):

          一次裝料量大, 生產(chǎn)效率高。
          全程全封閉全自動(dòng)化作業(yè),避免粉塵飛揚(yáng),生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境整潔干凈。
          溫度控制1500度以內(nèi),升溫速率快。
          可以在真空度下保持穩(wěn)定運(yùn)行工作。

     

          設(shè)備參數(shù):

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